主题:【求助】ICP多元素测定过程的空白

浏览0 回复40 电梯直达
匡矢
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
悬赏金额:30积分 状态: 已解决
最近用ICP测铁矿样品,王水+氢氟酸微波消解试样,190度1h,加硼酸饱和溶液后120度挥酸,冷却后定容,开始空白还可以,但是这几次As和SI的空白很大,As有2.6mg/l,si居然有10000mg/l,大家有碰过这种情况吗?做的也不是很频繁的,同样的消解罐做其他样品都可以,但是就是这个不行,还有Al,也有9mg/l,以前做这个样品都不会这样的,不知道是啥原因,大家帮帮忙啊~~
推荐答案:qq250083771回复于2013/12/30
怀疑空白被污染    一个空白  单次测定不可靠  建议多做几个空白  多次测定
补充答案:

tang566回复于2013/12/31

多做几个平行样品,验正下,平行样之间差异,假如没有差异,可能你们的样品就有,同时测测留样复测样品,看结果有无差异。

火狐回复于2013/12/31

As不知道是什么原因,Si的话在氢氟酸里面本来含量就有点高,我现在用过好几个牌子的氢氟酸,都是优级纯的,空白里面硅含量比较高,但是没有楼主做的这么多,既然以前的可以,这次应该是接触到玻璃了吧。

为您推荐
您可能想找: ICP-AES/ICP-OES 询底价
专属顾问快速对接
立即提交
jiasheng
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
qq250083771
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
怀疑空白被污染    一个空白  单次测定不可靠  建议多做几个空白  多次测定
qq250083771
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 jiasheng(jiasheng) 发表:
si含量高,是否接触到玻璃器皿
加热之后氢氟酸  硅也就挥发了吧 
qq250083771
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
秋月芙蓉
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
依风1986
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
匡矢
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 jiasheng(jiasheng) 发表:
si含量高,是否接触到玻璃器皿

有接触,是用玻璃管定容的,定容前已经冷却溶液了,挥酸的时候也加了硼酸络合氢氟酸了,还是不行吗?
匡矢
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 qq250083771(qq250083771) 发表:
你的线性咋样啊

都有三个九的
匡矢
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 秋月芙蓉(ljhciq) 发表:
这个空白太高了,器皿清洗完全吗

同样的消解罐做其他样品都可以,但是就是这个不行
tang566
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
多做几个平行样品,验正下,平行样之间差异,假如没有差异,可能你们的样品就有,同时测测留样复测样品,看结果有无差异。
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
品牌合作伙伴