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ID:v2868110
行业:其他
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:所以你前处理、仪器的各种状态什么的全都没有,单凭几个数据如何判断?基础的是Cool Plasma模式适应于简单基体的溶液,看这个样子你似乎是没赶酸挥发硅就直接测的?那就用H2模式吧
ID:xsh1234567
原文由 豆豆3252(v2868110) 发表: 老师,没有H2模式,能用氦气模式吗
ID:timstoicpms
原文由 timstoICPMS(timstoICPMS) 发表: 7700s 碰撞反应池标配 第一路He、第二路H2,怎么会没有氢气模式呢?
ID:jiasheng
原文由 光哥(xsh1234567) 发表:这。。。。建议您报个A家的半导体行业现场培训吧。太多东西从何说起
原文由 jiasheng(jiasheng) 发表: 老师,他应该是讲没有氢气 会不会。老师请教您一个问题。前几天仪器关机,清洗了透镜然后才泄真空的,然后过了几天重新开机抽真空,发现调谐数据有问题,拆开一看发现透镜底座有白花花的点?请问这是样品盐分过高吗?
原文由 豆豆3252(v2868110) 发表: 老师您有关于这方面的资料吗?我们公司以前的工程师辞职了,我们公司不会派我们去培训。
原文由 光哥(xsh1234567) 发表:多高的盐分才会跑到透镜基座里去估计是哪个步骤的水分没吹干,或者基座被酸气腐蚀了?上图看看