原文由 xhy8304(xhy8304) 发表:
我们公司采用岛津GC2010PLUS分析制氢工艺的CO/CO2/CH4/O2/N2
1. 分析系统
样品经过十通阀一进样后,首先通过十通阀一进行预分离,O2,N2切换进入分子筛柱,分离后,通过TCD进行检测。
样品中的CO, CO2通过六通阀二切换进入Porapak柱,然后经过分离后,经过转化炉,通过FID可以检测出气体中微量的CO, CO2。
请问:可否帮忙把整个样品气分析过程描述出来?
如何预处理?(预处理过程气体走向)?预处理分离的两路气体走向和气体组分?接着又是怎样分离的?
105/92代表什么,图上就有画了,105是10通阀,92是6通阀
一开始(0.00分)10通阀和6通阀同时转到进样位置,10通阀进样时样品先过PN柱再过C13X柱.
0.9分钟后10通阀转回待机位置并反吹PN柱(此时O2/N2/CH4/CO应该都已流入C13X柱),将仍在PN柱内的CO2及重于CO2的成分吹出避免流入C13X柱形成污染.
2.8分时6通阀也转回待机位置(6通阀转回时间没那么重要,挑FID不出峰时转回即可).
TCD可看到及顺序应该是O2/N2/CH4/CO (我不那么确定)
FID可看CH4/CO/CO2 (我不知顺序)
可以上传一下TCD图谱吗? 好奇的是TCD待机时载气只经过一管柱(C13X),进样时就变成经过两管柱(PN+C13X),如此阻力大增会使TCD基线剧烈变动吧?
剧烈变动的TCD基线不会埋没出峰吗?
这里面的C13X是不是MolecularSieve13X的同级品?