主题:【讨论】测试溶液中的Si遇到的问题

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semic
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原文由 shaweinan 发表:
既然进行分析校正曲线拟合的相关系数是0.995,而且测试金属元素时一般都在4个9左右,表明在15000-20000左右的空白信号是背景噪音,属正常情况。


一般背景噪音没有这么大吧?
qian
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我觉得应该将氢氟酸赶干净.这绝对是空白居高不下的原因.
semic
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能否详细说一下怎么赶酸,本人是外行,不是学化学的,谢谢!
wangshun4504
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原文由 semic 发表:
我的雾化器及雾化室为耐酸的scott型,PE的工程师说过,低浓度的HF一般没有问题的。
石英炬管好像低浓度的HF问题也不大吧,只要测试时间不要太长。


HF没有赶净的话,会腐蚀石英炬管,当然硅空白会高了!你要测硅,用HF酸,就不能赶HF了,不然硅会损失掉的!加饱和硼酸络合
shaweinan
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原文由 shaweinan 发表:
既然进行分析校正曲线拟合的相关系数是0.995,而且测试金属元素时一般都在4个9左右,表明在15000-20000左右的空白信号是背景噪音,属正常情况。

原文由 semic 发表:
一般背景噪音没有这么大吧?


  背景噪音一般主要是和谱线位置、样品空白和观测方式等因素有关,楼主采用的是水平观测吧,水平观测应该比垂直观测的背景噪音要大。另外你用含2%HF的溶液测Si,从理论上讲应该也有一定的影响,但从你的实验上看,好象影响比较小,不是很明显。
semic
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你说的水平观测应该就是轴向观测吧,我用的是径向观测,也就是竖直观测
swanorgoose
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你用来装空白的容量瓶是胶的还是玻璃的?如果是玻璃的话,空白不变大,就不正常了.
b1b_boy
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semic
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原文由 swanorgoose 发表:
你用来装空白的容量瓶是胶的还是玻璃的?如果是玻璃的话,空白不变大,就不正常了.


我的脑袋还没有发昏,是用的聚乙烯的容量瓶,呵呵
semic
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