主题:【讨论】GPC峰拟合处理与竖直切割

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zzhong99
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对双峰或多峰,目前几乎所有的软件都是进行竖直切割,如在中间最低点竖直划分,对两块区域分别积分.
    个人认为这样的处理是比较武断的,峰应该是两个高斯分布的叠加,各峰积分也应该是对高斯峰积分,对于双峰,宜用两个高斯峰实施适当重叠拟合.
    不知大家以为我的观点如何.
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chris
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当然是越接近分离的越好,可是毕竟是没有完全分开的两个或多个峰,与其他色谱图的情况有所不同。
这说明两种分子量范围的物质有重跌,而不只是浓度或进样量引起的,而且所出的两个峰不一定符合高斯分布的情况是很常见的。如在高分子合成的过程中,谁能肯定合成出来的物质是符合高斯分布的。

欢迎不同意见的加入。
zzhong99
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的确如此,理想的峰常常难得
拿到的谱图,如果能进行好一点的处理,希望能对分析有一点帮助
朋友,我们正在开发一个GPC数据处理软件
期望大家的宝贵意见和建议
也期望您能不吝赐教

我的博克
http://zzhong01.salala.com

拟合处理是我们这边几位从事GPC工作的朋友提出来的,我们大胆尝试了一下
请朋友们指点
chris
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GPC数据处理我觉得除了基本的积分,计算功能以外,还要有两个或多个谱图的叠加比较,对双峰或多峰的处理,对多峰在总峰面积中所占比例的计算等等
报告格式也应该多样化,且数据要实现不能任意改动。
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