主题:【原创】测量样品时Ni高

浏览0 回复4 电梯直达
cwshq
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我在测量金属镓样品时,测量样品的空白和样品Ni都非常高,而测量水却没有问题,,地二次再测量时,刚测完样品又重新测量曲线空白却高达0.88,1ppb点却高达1.67,不知为何
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kiwi-kids
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重新测定结果有可能受到系统粘污偏高,很正常

不知道你的样品中测定结果多高,冲洗时间?
instrumentid
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szjihui
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pisces_fei
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Ni背景本身就比较高吧,主要是Ni锥原因吧,换Pt锥试试看。
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