原文由 jeffrylee 发表:
多谢querida!您说的这本书我有,就是看着上面的介绍我也挺难理解,更想知道的是这几种像的获取在电镜上是如何操作的呢?我在TEM方面是个新手,光有这种非直观的理论有时候挺难让我理解的,大大能不能结合实际的操作举一下例子?
从图像本身来说,晶格像与结构像没有区别,即都是一维条纹像或二维点阵像。一个高分辨像究竟是晶格像还是结构像,关键在于两者成像条件不同。高分辨像要想成为结构像,必须满足如下两条:(1)弱相位体近似,即样品厚度非常薄,2nm左右;(2)谢策尔聚焦,即最佳欠焦量。只有满足上述两个条件得到的高分辨像才可称为结构像,不论一维还是二维,即像直接与材料原子结构的势函数投影相对应,可以用来进行结构分析。然而实际情况是,样品厚度较大,通常100nm左右,最佳欠焦量也较难判定,这种条件也可以形成高分辨像,但这种像纯粹是电子数通过晶格后相干涉的结果,只反映晶格的几何信息,与材料的真实结构(即各原子占位)没有直接关系,这种像就称为晶格像。
简言之,结构像就是满足弱相位体近似和谢策尔聚焦的高分辨像,而晶格像是不满足上述条件的高分辨像。
在实际工作中,人们通常会在样品不同部位处拍摄一系列欠焦像,然后通过模拟的方法,从中挑选出满足结构像成像条件的图像,以此作为结构像进行原子占位的结构分析