主题:请教有关基体效应

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skyboy81
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qiqi9477
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q 我也觉得应该是指该样品中的主成份浓度过高而造成相当可观的干扰!
toplxk
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其实大概意思都知道是怎么回事
但要给个标准一点的定义就不好组织词语了

基体应该就是指样品的主成分吧
tome-zhao
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物理干扰:
    表面张力、粘度、密度和盐份等造成雾化器提升效率的差异。1)有机物;2)酸的浓度和种类

光谱干扰:
    待测光谱线处存在基体或其它待测元素的谱线。

化学干扰:
    由于等离子体的高温,样品停留时间长,惰性气氛ICP中化合物很难维持或无法形成,化学干扰少。
tome-zhao
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电离干扰:
    岩矿分析中的碱金属盐类易电离元素的大量存在,使待测元素的光谱强度(离子线)降低。

去溶干扰:
    溶液去溶存在的差异。

溶液去溶损失的差异。

sundyvan
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原文由 tzl75 发表:
原文由 ambastrong 发表:
那位好心帮我把资料中心的“ICP-AES分析中基体效应的研究”这篇文章发到我信箱吧!
ambastrong@gmail.com
我新来这个论坛,积分不够,多谢多谢!



斑竹们可以顺便也发点ICP的资料给我吗??谢谢了!
小弟的邮箱:fanfudeng@163.com
qiqi9477
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zishuixian1978
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原文由 wenxina 发表:
一般指样品里面大量的基体元素及酸等对所分析元素强度的影响(我的理解)。
通常会造成待测元素强度下降,
原因很复杂,主要有雾化效率下降,离子化效率下降等
消除的最好办法就是基体匹配,无法基体匹配时可采用标准加入法、
分离基体元素、降低进样浓度等。


不知道我说的对不对,请高手指点

请问,在做标准加入法的时候,扣背景的点很难选择,不同的点对样品结果影响很大,有没有好方法能够提高标准加入法的准确性呢?
tsgxliy1
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我的理解是样品中除待测元素外其它物质对待测元素的干扰
jianguopeng
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内标法也可消除在进样过程、雾化过程和等离子体中对待测元素存在的基体效应,但无法消除背景漂移和光谱干扰。通常用Y和Sc做内标元素。
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