X 射线散射和衍射对于厚度为几个原子层到几十微米的薄膜材料是灵敏的。一
般而言,X 射线方法是非破坏性的,其中不要求样品制备,它们提供恰如其分的技术路线,以
获得薄膜材料的结构等信息;分析能对从完整单晶膜和多晶膜到非晶膜的所有材料进行。
本文评述了用X 射线方法表征和研究这类薄膜材料的新进展。全文包括引论、常用的X
射线方法、原子尺度薄膜的研究、工程薄膜和多层膜的研究、一维超点阵结构研究、超点阵界
面粗糙度的X 射线散射理论、不完整性和应变的衍射空间图或倒易空间图研究七个部分。
薄膜、多层膜和一维超点阵材料的X 射线分析附件