主题:有用ICP-AES做高纯铜(〉99.99%)中杂质元素的含量吗?

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whale
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这两天正在定型号,价格谈判呢!
从厂家报的检测限考虑,应该是在热电的IRIS INTREPID II 双向观测或者是瓦利安的MPX 水平观测里选一款,你们做5个9的金是用什么型号机器啊?做金不可能用基体匹配的办法吧!还有,内标法是什么一个原理啊?
谢谢斑竹了
renzhihai
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sabrina0618
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我做过合金(99.99%)的杂质分析。我配成基体浓度是10000ppm直接进样,好像影响不大,而且相对于所测的杂质元素也远远超过检出限了。不知道我的方法是否存在什么问题,大家一起探讨一下。
tzl75
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原文由 whale 发表:
这两天正在定型号,价格谈判呢!
从厂家报的检测限考虑,应该是在热电的IRIS INTREPID II 双向观测或者是瓦利安的MPX 水平观测里选一款,你们做5个9的金是用什么型号机器啊?做金不可能用基体匹配的办法吧!还有,内标法是什么一个原理啊?
谢谢斑竹了


哈哈,没问题 的,直接溶解进样可以,分离基体金也可以,也可以采用标准加入法,我的是单道扫描的

内标法是一种相对强度分析方法,可以减少试样蒸发,激发条件,试样组成等对谱线强度的影响,分析时要选择一个内标元素和分析线的 ,更详细的你可以看看仪器分析书上的或课件,都有相应的介绍,是基础的东西
yuyi
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如果反过来测Cu的含量呢?这么高的含量,除了减杂测定外,还有什么比较好的方法?
tzl75
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一般高纯物质的纯度分析国标规定大部分都采用减去杂质含量的方法分析,当然了也可以考虑用电解等方法进行直接分析,不过还是分析条件是比较苛刻的
540cj
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99.995以上的纯铜可用基体分离测定,如先电解除去大部分基体再测定;
99.995以下的纯铜直接在标样中加入与样品等量的高纯铜(99.999以上),空白也用高纯铜,再在仪器软件中设好基线扣除位置。

不要心痛仪器,其实大部分纯金属都可以用带基体直接分析,关键是找到较高纯度的标准。美国ASTM基本都这样推荐分析。

分析完后多冲洗,矩管也最好用酸浸泡。
lonerwolf
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tzl75
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原文由 lonerwolf 发表:
好像icp不能检测这么高的纯度把


哈哈,这位朋友,肯定能检测的,
zhangwuji
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采用基体匹配的办法更放便一些.
分辩率要够,否则应有扣背景的软件,如PE 的MSF功能.
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