主题：【讨论】Al强度越测越高的问题

原文由 zgyzhj 发表:
我发现在测Al（167nm）的时候，Al的强度越测越高，在低含量时大概每隔2分钟测量会增加1%的强度，在含量的时候，甚至会超过10%的强度增长。每测一次，Al强度增长一次。而同一溶液中其他元素无明显的强度变化。大家遇到过这种问题吗？难道Al在系统中会堆积？
（上午开的机，一直测到下午，应该不是驱气的问题）

原文由 4558019 发表:
你每次测完后有没有清洗?

原文由 windeast 发表:
应该隔一段进个标液看看是怎么回事，标液的变化是怎么样的。

167nm，太靠近紫外端了，检测器是需要氩气吹扫的，不知道你的仪器是怎么要

求的，我用的varian Vista pro 一般都是180nm以下需要吹扫大半天比较好。

从你的现象来看，可能是光谱室还是没有吹扫完全的原因吧。

Al也一定要选择167nm么？308.2nm 和396.2nm的看看呢？

原文由 jackcong 发表:

原文由 zgyzhj 发表:
我发现在测Al（167nm）的时候，Al的强度越测越高，在低含量时大概每隔2分钟测量会增加1%的强度，在含量的时候，甚至会超过10%的强度增长。每测一次，Al强度增长一次。而同一溶液中其他元素无明显的强度变化。大家遇到过这种问题吗？难道Al在系统中会堆积？
（上午开的机，一直测到下午，应该不是驱气的问题）

肯定是不正常的。
但是你怎么选择这条波长呢，小于200nm，不需要吹扫的吗？
每次测试完一个样品要注意清洗一下，不要偷懒哦。

原文由 zgyzhj 发表:

原文由 jackcong 发表:

原文由 zgyzhj 发表:
我发现在测Al（167nm）的时候，Al的强度越测越高，在低含量时大概每隔2分钟测量会增加1%的强度，在含量的时候，甚至会超过10%的强度增长。每测一次，Al强度增长一次。而同一溶液中其他元素无明显的强度变化。大家遇到过这种问题吗？难道Al在系统中会堆积？
（上午开的机，一直测到下午，应该不是驱气的问题）

肯定是不正常的。
但是你怎么选择这条波长呢，小于200nm，不需要吹扫的吗？
每次测试完一个样品要注意清洗一下，不要偷懒哦。

选这条波长，是因为热电安装调试的工程师建议的，说是干扰小，效果好
我是在对同一样品重复测定看稳定性，所以没有清洗。结果发现强度持续增加

原文由 风之灵 发表:

原文由 zgyzhj 发表:

原文由 jackcong 发表:

原文由 zgyzhj 发表:
我发现在测Al（167nm）的时候，Al的强度越测越高，在低含量时大概每隔2分钟测量会增加1%的强度，在含量的时候，甚至会超过10%的强度增长。每测一次，Al强度增长一次。而同一溶液中其他元素无明显的强度变化。大家遇到过这种问题吗？难道Al在系统中会堆积？
（上午开的机，一直测到下午，应该不是驱气的问题）

肯定是不正常的。
但是你怎么选择这条波长呢，小于200nm，不需要吹扫的吗？
每次测试完一个样品要注意清洗一下，不要偷懒哦。

选这条波长，是因为热电安装调试的工程师建议的，说是干扰小，效果好
我是在对同一样品重复测定看稳定性，所以没有清洗。结果发现强度持续增加

对于测试190nm以下谱线需要吹扫光室的仪器，不建议选择这么低的谱线，因为光室吹扫是一个动态平衡的过程，需要时间很长。
你用167nm谱线强度一直升高的原因应该是光室还一直没平衡好，因为吹扫时间越长，里面的氧气等越少，对紫外谱线的吸收越少，则其强度越高。