【求助】测高纯二氧化硅（5个9）中的P、Ｂ那家的ＩＣＰ

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2008/12/29 12:35:14 11楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 ykll20062006 发表:
当然是7500cs好咯，人家是专门做这个的。

不是吧，没听说专门做B、P的

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yzyxq

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2008/12/31 13:15:35 12楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

建议是PE DRC II,虽然我没做过硅基体。但从我对仪器的了解来看，DRC II是消除干扰最有效的仪器。

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benbensh

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2009/1/4 0:06:49 13楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 ellayin 发表:
当然是7500cs好咯，人家是专门做这个的，据我所知我们行业里很多家都是用这个7500cs产品的。呵呵～

任何一家的ICP-MS测定硅基体中的P，标准曲线有谁敢贴出来的？

7500CS好在哪里，你倒是说说看？很多人都用日系车，可是没听说有钱人也喜欢这些经济型！

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taolun

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2009/1/20 9:25:22 14楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我也很关心高纯硅中P的测定问题,马上就要用ICP-MS做5-6N硅中磷了.据了解不是很容易.

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芝秋一叶

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2009/1/31 15:10:40 15楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我们也是作二氧化硅的，式同行了饿。但我们只要求B，P不要求

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icp_icp

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2009/2/4 11:21:03 16楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 wwmjczx 发表:
我们公司最近要我调研ICP-MS，主要测高纯二氧化硅（5个9）中的P、Ｂ含量，溶液中含量大约在１ppb－５ppb，硅基体约１％－２％,要想基体小，定容体积大的话，溶液中含量会更低，不知那家的ICP-MS更适合我们用，请各位高手指教！谢谢了！

如果你提供的数值准确的话,我觉得没有必要买MS,JY的ULTIMA2- B的检出限在0.3PPB左右,P稍差点在1.5个PPB,考虑到MS做P效果也不好.只是个提议

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nian1210

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2009/2/4 11:38:33 17楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

我们用的是热电ICP-MS，不过在溶解样品时，尽量缩短溶样时间，防止生成沉淀或被吸附。

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Chelsea

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2009/2/6 10:42:45 18楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

ICP-MS测定元素P本来就比较困难，目前有人采用碰撞反应模式消除干扰，还有使用加氧的方式间接测定，效果勉强可以接受；
但是，在硅基体中测定P的难度更大，楼上使用Agilent仪器的朋友是否有什么特殊的解决方案，建议拿出来与大家分享一下；
我想该测定的问题不在于使用哪家的机器，而是选择的测定方法！！

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lilongfei14

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2009/2/7 15:13:51 19楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 wwmjczx 发表:
二氧化硅是用ＨＦ溶解的．

那家的距管能耐氢氟酸的。

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highspeed_v

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2009/2/12 14:37:39 20楼管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 benbensh 发表:
原文由 ellayin 发表:
当然是7500cs好咯，人家是专门做这个的，据我所知我们行业里很多家都是用这个7500cs产品的。呵呵～

任何一家的ICP-MS测定硅基体中的P，标准曲线有谁敢贴出来的？

7500CS好在哪里，你倒是说说看？很多人都用日系车，可是没听说有钱人也喜欢这些经济型！

7500cs 确实是半导体专用的，名字里就能看得出来，C（cell）S（semiconductor），半导体有哪家不做B，P的？不像PE的DRC II，明明是一款高端点的通用仪器，还要骗用户是半导体专用。

仪器好不好都是自己体会的，说有什么用？各个厂家说自己的仪器的特点能说一年，有用吗？没用过其他厂家的仪器，个人觉得安捷伦的应用支持和服务做的比较好

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