主题：【讨论】FFT and electron diffraction

原文由 drizzlemiao 发表:

原文由 iamikaruk 发表:
用的是NCEMSS自带的FFT功能。002面是衍射束和衍射束干涉的结果，完整的成像理论表明即使使用光阑，成像的频率是衍射频率的两倍。在理想的弱相位体近似中忽略了衍射束和衍射束的干涉效应（即光阑外的东西），因此可以看到2nm的002面很弱，对于4nm，则无法忽略干涉效应。

我没用过NCEMSS，不知道里面的FFT过程是怎样的。DM里给出的两张图的FFT结果很接近，只是4nm图片的衬度更高，黑色区域出现了一个平台，定性结果一样。弱相位体近似肯定是不完美的，衍射束之间的干涉也肯定存在，但是弱相位体近似被用了很多年并且能给出很好的结果，说明它跟传统高分辨成像过程还是很接近的。如果必须用衍射束干涉来解释002面的存在，我觉得这个概念一定很早就在各种理论和计算中强调出来了。不太可能图像明摆着有这个东西，大家在解释的时候却把它忽略掉。
你再模拟个不带光栏的超高分辨率的图像好不好？比如像差极其小，晶体比较薄，图像越接近理想原子投影越好。还有，那个完整成像理论在哪里能查到？

原文由 drizzlemiao 发表:
这个结果实在让人泄气。按我的猜想，技术的发展在追求精确的同时应该让生活更简单。所以理想的成像结果要直接反映材料结构。那么，Si的110投影做光学变换是不可能出现002的。但是这个图像显然还不能直观反映真实结构，虽然挺接近的了。所以看到这个图的时候，我认为FFT里应该出现002。但是算出来的FFT居然没有002（或许这说明哑铃结构已经分开得足够好了，对图像做傅氏分析的时候信号能很好地分开）。让人心烦。
FFT中的002肯定来自图像上的真实信息，这个应该没有疑问。如果图像上这个真实信息不是由于光路或者底片的不完美造成的（换句话说，来自真实的成像过程，比如111光束之间的干涉），那么我们应该能在电子衍射里就观察到002，因为对理想的成像系统，衍射面和像平面的信息是对等的。其实现在我有点怀疑所谓的111光束间的干涉是不是就是二次衍射的另一个说法，因为002二次衍射的解释就是“一个111衍射在另一个111面发生二次散射”。这其实应该是个干涉过程，两次散射只是个比较形象的说法罢了。

原文由 perpetualcat68(perpetualcat68) 发表:
很久以前的一场概念混乱的讨论，更说明得多向书本学习。

自以为是的解释只会加深错误。

现在应该没这些方面的疑惑了吧。   

原文由 iamikaruk(iamikaruk) 发表:

原文由 perpetualcat68(perpetualcat68) 发表:
很久以前的一场概念混乱的讨论，更说明得多向书本学习。

自以为是的解释只会加深错误。

现在应该没这些方面的疑惑了吧。   

概念的混乱来自于书本……现在不是依然公认物镜光阑大小决定图像的最高频率么？