主题:【讨论】火焰法能否用塞曼背景校正技术?

浏览0 回复46 电梯直达
lihuilai1022
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原文由 raoqun20 发表:
原文由 lihuilai1022 发表:
原文由 raoqun20 发表:
再次强调:只论技术,莫论其它!

混BBS要知道起码的尊重。

尊敬的斑竹这是技术问题???“不要过分相信所谓的权威,何况他在原子吸收界还算不上权威”!!!



我的意思是提示大家就技术问题展开讨论,至于这句那就是我说的尊重问题。
谢谢斑竹!希望本版越办越好!
光谱鬼
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hsx5108
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生命的过程实际上是碳元素自然演化的结果。虽然有的人含碳量高,有的人含碳量低,但!你说外国人真的就比中国人聪明?我看不见得,你随便挑个老外来一起接受两人都从未涉及的学科或事物,我未必就会比他差!某些人说不要相信所谓的权威自已又点出某些权威,哈哈,我不说所谓也不说可笑.大家要相互尊重相互理解.专家的一些说法,我们有自己的理解与见地本无可厚非,科学就是要取前辈之精华而去其糟粕才能进步!但我们的表达必须是诚恳的谦虚的,才能让人认可我们接受我们,我们也才能更快的成长!谢谢.
该帖子作者被版主 raoqun203积分, 2经验,加分理由:做技术就需要这样的态度
tingxi
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恒定磁场塞曼扣背景(偏振塞曼)好像是日立公司的专利,他的火焰、石墨炉部分用的全是恒定磁场塞曼效应扣背景,他的特点是可在全波长范围内(190-900)进行背景校正,由于采用了一个元素灯进行背景和总吸收测量,所以仪器的长时间稳定性比较好,开机预热时间短,背景校正能力强,一般我用的时候背景吸光度能扣到1.2,但是恒定磁场扣背景使某些元素的绝对响应值降低,Pb、Cu比较明显,但是由于它的稳定性好,所以检出限还是挺低的。氘灯扣背景好像只能用到340nm以下,波长高于340nm的基本就要靠其他技术扣背景了。
chemistryren
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今天特地问了下耶拿的魏工,原来真是自己没学好...耶拿石墨炉的扣背景是三磁场塞曼技术,但形成磁场的部件是位于石墨炉两侧的两个电圈,并非电极通电形成的电磁场.石墨电极只是通电给石墨管升温用的.而瑞利的原吸利用了恒定磁场塞曼给火焰部分扣背景,提供磁场的部件其实是一对永磁铁.这样就是说,火焰部分利用塞曼效应是可行的,它的实现是靠永磁铁产生恒定磁场....但接下来我又有疑问了.瑞利的石墨炉部分用的是交变磁场呢还是和火焰用的是同一个恒定磁场??
keylua
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唐伯猫点蚊香
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camel1998
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原文由 chemistryren 发表:
今天特地问了下耶拿的魏工,原来真是自己没学好...耶拿石墨炉的扣背景是三磁场塞曼技术,但形成磁场的部件是位于石墨炉两侧的两个电圈,并非电极通电形成的电磁场.石墨电极只是通电给石墨管升温用的.而瑞利的原吸利用了恒定磁场塞曼给火焰部分扣背景,提供磁场的部件其实是一对永磁铁.这样就是说,火焰部分利用塞曼效应是可行的,它的实现是靠永磁铁产生恒定磁场....但接下来我又有疑问了.瑞利的石墨炉部分用的是交变磁场呢还是和火焰用的是同一个恒定磁场??

这个问题如果您用过日立的仪器的话,就很好解释了。瑞利的810其实是以日立的Z5000型原子吸收分光光度计为样机进行了一定的改进和重新设计做出的一款新的恒磁场塞曼原子吸收。810的原子化器是双原子化器并联,原子化器固定,无需切换。所以石墨炉部分用的是另一块永磁磁钢,石墨管就在磁隙处。
光谱鬼
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原文由 camel1998 发表:
原文由 chemistryren 发表:
今天特地问了下耶拿的魏工,原来真是自己没学好...耶拿石墨炉的扣背景是三磁场塞曼技术,但形成磁场的部件是位于石墨炉两侧的两个电圈,并非电极通电形成的电磁场.石墨电极只是通电给石墨管升温用的.而瑞利的原吸利用了恒定磁场塞曼给火焰部分扣背景,提供磁场的部件其实是一对永磁铁.这样就是说,火焰部分利用塞曼效应是可行的,它的实现是靠永磁铁产生恒定磁场....但接下来我又有疑问了.瑞利的石墨炉部分用的是交变磁场呢还是和火焰用的是同一个恒定磁场??

这个问题如果您用过日立的仪器的话,就很好解释了。瑞利的810其实是以日立的Z5000型原子吸收分光光度计为样机进行了一定的改进和重新设计做出的一款新的恒磁场塞曼原子吸收。810的原子化器是双原子化器并联,原子化器固定,无需切换。所以石墨炉部分用的是另一块永磁磁钢,石墨管就在磁隙处。

原子化器要是采用并联方式,他的优势应该是光能量强吧,日立采用串联方式光程太长,这样是为克服日立仪器灵敏度低的缺陷?但这种方式光学系统要复杂了。
真是要解决这个问题还存在磁场强度、原子化器结构等问题,不是太简单的事吧?
要是仪器真能把直流偏振塞曼稳定性好的优点继承,又能克服灵敏度低的缺点,还真是好事啊关注中
blue_guy123
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原文由 tingxi 发表:
恒定磁场塞曼扣背景(偏振塞曼)好像是日立公司的专利,他的火焰、石墨炉部分用的全是恒定磁场塞曼效应扣背景,他的特点是可在全波长范围内(190-900)进行背景校正,由于采用了一个元素灯进行背景和总吸收测量,所以仪器的长时间稳定性比较好,开机预热时间短,背景校正能力强,一般我用的时候背景吸光度能扣到1.2,但是恒定磁场扣背景使某些元素的绝对响应值降低,Pb、Cu比较明显,但是由于它的稳定性好,所以检出限还是挺低的。氘灯扣背景好像只能用到340nm以下,波长高于340nm的基本就要靠其他技术扣背景了。


请问稳定性与检出限有什么必然联系呢?请具体说说原理,例如:稳定性指什么?您突出的“稳定性”概念与检出限低的逻辑关系是什么呢?希望能有科学客观的论述。谢谢!
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Last edit by blue_guy123
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