原文由 chemistryren 发表:
今天特地问了下耶拿的魏工,原来真是自己没学好...耶拿石墨炉的扣背景是三磁场塞曼技术,但形成磁场的部件是位于石墨炉两侧的两个电圈,并非电极通电形成的电磁场.石墨电极只是通电给石墨管升温用的.而瑞利的原吸利用了恒定磁场塞曼给火焰部分扣背景,提供磁场的部件其实是一对永磁铁.这样就是说,火焰部分利用塞曼效应是可行的,它的实现是靠永磁铁产生恒定磁场....但接下来我又有疑问了.瑞利的石墨炉部分用的是交变磁场呢还是和火焰用的是同一个恒定磁场??
原文由 camel1998 发表:原文由 chemistryren 发表:
今天特地问了下耶拿的魏工,原来真是自己没学好...耶拿石墨炉的扣背景是三磁场塞曼技术,但形成磁场的部件是位于石墨炉两侧的两个电圈,并非电极通电形成的电磁场.石墨电极只是通电给石墨管升温用的.而瑞利的原吸利用了恒定磁场塞曼给火焰部分扣背景,提供磁场的部件其实是一对永磁铁.这样就是说,火焰部分利用塞曼效应是可行的,它的实现是靠永磁铁产生恒定磁场....但接下来我又有疑问了.瑞利的石墨炉部分用的是交变磁场呢还是和火焰用的是同一个恒定磁场??
这个问题如果您用过日立的仪器的话,就很好解释了。瑞利的810其实是以日立的Z5000型原子吸收分光光度计为样机进行了一定的改进和重新设计做出的一款新的恒磁场塞曼原子吸收。810的原子化器是双原子化器并联,原子化器固定,无需切换。所以石墨炉部分用的是另一块永磁磁钢,石墨管就在磁隙处。
原文由 tingxi 发表:
恒定磁场塞曼扣背景(偏振塞曼)好像是日立公司的专利,他的火焰、石墨炉部分用的全是恒定磁场塞曼效应扣背景,他的特点是可在全波长范围内(190-900)进行背景校正,由于采用了一个元素灯进行背景和总吸收测量,所以仪器的长时间稳定性比较好,开机预热时间短,背景校正能力强,一般我用的时候背景吸光度能扣到1.2,但是恒定磁场扣背景使某些元素的绝对响应值降低,Pb、Cu比较明显,但是由于它的稳定性好,所以检出限还是挺低的。氘灯扣背景好像只能用到340nm以下,波长高于340nm的基本就要靠其他技术扣背景了。