第一次接触TEM测试不知道该怎么分析,导师又催着交论文快急死了,请各位老师帮一下忙。
所做样品是通过磁控溅射在AlN缓冲层上生长InN,二者都是六方纤锌矿结构。
![]()
![]()
![]()
![]()
这几张总貌能反映什么信息?
晶体呈柱状结构,但怎么看起来不管是缓冲层还是InN柱体周线似乎都不垂直于界面,而有一个夹角?是制样造成的形貌上的错觉还是确实有一个角度?什么原因造成的呢?
第二张图是否是暗场图?能够看出什么信息呢?比如位错应变之类的?
第三、四张图上的明显的暗点是什么?是否是析出相?
![]()
![]()
AlN层的高分辨率图及其FFT。
波浪式的纹理是否是莫瑞纹?除了能看出取向较多外还能反映什么信息呢?
FFT取在高分辨率图中间偏右下的位置。各位置的FFT看起来都是这种同心圆环状和很多乱七八糟的亮点的样子,这是什么原因造成的呢,这么乱要怎么标定。
![]()
过渡层
![]()
![]()
![]()
![]()
InN层,两组高分辨率及其FFT
第一组能看出明显的取向改变及改变区域的一些位错(?)和无序,是否还有孪晶等其他缺陷?FFT取在中间偏右下的位置,两列交叉的斑点是否分别标明这两种取向?第二组莫瑞纹(?)的右边那大片区域是什么相?已经看不出明暗条纹了。FFT虽然呈四边形或者说斜六边形,但是有大团的乱七八糟的斑点,这是怎么造成的呢?
从这几幅图上能否推断出各层的主要取向?都能反映出什么晶体学特性请各位老师多多指出。拜谢!