主题:【求助】ICP-OES對含Si元素直接測試Si含量

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tangjiqin1225
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我們在用ICP-OES對含Si元素直接測試Si含量時,通常會遇到如下問題:
1、標準液保存時間不長
2、儀器在對同一試劑空白測試時,Si值會越測越高。
導致上述現象是因為基質中有HF嗎?
各位,有遇到過上述問題嗎?
如有。請幫忙哦!
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junhuahao
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建议配制标准时要加一定量的盐酸, 空白值硅高的话可能水质不好,用超纯水,标准液储存的瓶子是什么呢?我是用PE瓶储存的
tangjiqin1225
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原文由 junhuahao(junhuahao) 发表:
建议配制标准时要加一定量的盐酸, 空白值硅高的话可能水质不好,用超纯水,标准液储存的瓶子是什么呢?我是用PE瓶储存的
tangjiqin1225
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原文由 junhuahao(junhuahao) 发表:
建议配制标准时要加一定量的盐酸, 空白值硅高的话可能水质不好,用超纯水,标准液储存的瓶子是什么呢?我是用PE瓶储存的

現在的問題是比如第一次是3mg/l。第二次可能就是10mg/l,會一直標高。這是對同一個樣品測試。
還有我想問下,那個加鹽酸的目的是什么呢?
謝謝
zoe0122
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如果你的空白中含HF,管路又是玻璃的,那肯定会腐蚀了,随之会导致玻璃中的Si被带出,应该有这种可能性吧?
tangjiqin1225
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原文由 zoe0122(zoe0122) 发表:
如果你的空白中含HF,管路又是玻璃的,那肯定会腐蚀了,随之会导致玻璃中的Si被带出,应该有这种可能性吧?

我也覺得是這樣的問題。
可是這樣的話Si應該怎么測試呢?
又是一個問題了
上海泰伦
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测硅的含量不能用氢氟酸溶解啊,Si+HF=SiF4(气体)挥发了。你的进样系统是玻璃的,也会被腐蚀的。
tangjiqin1225
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原文由 上海泰伦(sh102012) 发表:
测硅的含量不能用氢氟酸溶解啊,Si+HF=SiF4(气体)挥发了。你的进样系统是玻璃的,也会被腐蚀的。

加H3PO4可避免SiF4的揮發
可腐蝕這一問題該怎么避免呢
上海泰伦
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除非配耐氢氟酸的进样系统了.不过这个挺麻烦也不便宜的.
tangjiqin1225
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原文由 上海泰伦(sh102012) 发表:
除非配耐氢氟酸的进样系统了.不过这个挺麻烦也不便宜的.

这个问题就很难解决了
秋月芙蓉
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原文由 上海泰伦(sh102012) 发表:
除非配耐氢氟酸的进样系统了.不过这个挺麻烦也不便宜的.

PE ICP标配就是耐氢氟酸系统
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