主题：【求助】离子源程序升温的作用

原文由 徐好狗(hoggy) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
虽然看到了，但这个350度一般很少用的，要求特殊，并不能进行离子源程序升温的。

哦，安捷伦可能是在欺负（嘲笑比较恰当）某品牌和这个品牌的山寨版不能用程序控制离子源温度、350C化学背景高。

陶瓷的离子源垫片吸附很厉害，350C阿猫阿狗各路大神都会出来。国内目前还都是陶瓷的，也有用更差的PEEK的，控制在200~250度这样吸附和解析傅会平衡，突然上350就会露馅了。

原文由 徐好狗(hoggy) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
虽然看到了，但这个350度一般很少用的，要求特殊，并不能进行离子源程序升温的。

哦，安捷伦可能是在欺负（嘲笑比较恰当）某品牌和这个品牌的山寨版不能用程序控制离子源温度、350C化学背景高。

陶瓷的离子源垫片吸附很厉害，350C阿猫阿狗各路大神都会出来。国内目前还都是陶瓷的，也有用更差的PEEK的，控制在200~250度这样吸附和解析傅会平衡，突然上350就会露馅了。

原文由 halleyhalley(halleyhalley) 发表:
那你理解是程序控制？而不是程序升温？

原文由 徐好狗(hoggy) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
虽然看到了，但这个350度一般很少用的，要求特殊，并不能进行离子源程序升温的。

哦，安捷伦可能是在欺负（嘲笑比较恰当）某品牌和这个品牌的山寨版不能用程序控制离子源温度、350C化学背景高。

陶瓷的离子源垫片吸附很厉害，350C阿猫阿狗各路大神都会出来。国内目前还都是陶瓷的，也有用更差的PEEK的，控制在200~250度这样吸附和解析傅会平衡，突然上350就会露馅了。

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 halleyhalley(halleyhalley) 发表:
那你理解是程序控制？而不是程序升温？

原文由 徐好狗(hoggy) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
虽然看到了，但这个350度一般很少用的，要求特殊，并不能进行离子源程序升温的。

哦，安捷伦可能是在欺负（嘲笑比较恰当）某品牌和这个品牌的山寨版不能用程序控制离子源温度、350C化学背景高。

陶瓷的离子源垫片吸附很厉害，350C阿猫阿狗各路大神都会出来。国内目前还都是陶瓷的，也有用更差的PEEK的，控制在200~250度这样吸附和解析傅会平衡，突然上350就会露馅了。

在安捷伦的工作站里没有看到可以离子源程序升温的设置地方，无法程序升温。

原文由 星星(dadakgkg) 发表:
安捷伦的仪器有可以设置离子源程序升温的地方，至少对5975c来说
在编辑MS参数面板中，定时事件里面可以进行离子源设置，不过应用来说基本很少用的
貌似我那次也是试了一下才发现有这个功能的

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 halleyhalley(halleyhalley) 发表:
那你理解是程序控制？而不是程序升温？

原文由 徐好狗(hoggy) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
虽然看到了，但这个350度一般很少用的，要求特殊，并不能进行离子源程序升温的。

哦，安捷伦可能是在欺负（嘲笑比较恰当）某品牌和这个品牌的山寨版不能用程序控制离子源温度、350C化学背景高。

陶瓷的离子源垫片吸附很厉害，350C阿猫阿狗各路大神都会出来。国内目前还都是陶瓷的，也有用更差的PEEK的，控制在200~250度这样吸附和解析傅会平衡，突然上350就会露馅了。

在安捷伦的工作站里没有看到可以离子源程序升温的设置地方，无法程序升温。