主题:筹建《等离子体发射光谱学杂文》--建议与资料征集中【7.9日更新】

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该帖子已被wangfeidown设置为精华;
引用宋丹丹的台词:“于是呼我此起彼伏,我想请大家一起编本书...

书名:暂定《等离子体发射光谱学杂文》
内容:
1.基础理论部分
光分析基础、原子光谱与分子光谱、原子发射基本原理、概念术语等
2.仪器发展历程部分
光谱法仪器与光学仪器、原子发射装置与仪器(包括光源、检测器、光栅、棱镜、光路图等等)、、概念术语、仪器实例介绍等
3.定性、定量原理与分析方法部分
定性、定量的原理公式、概念术语等;干扰校正与分析方法以应用行业区分
4.个人工作心得部分
需认为是自己的压箱子底绝招(否则会与第三部分重复)

注:版权归大家所有  
指导思想:五到三敢(在不触犯法律条件下想得到、搜得到、听得到、学得到、做得到;敢想、敢说、敢贴)为此书的最终形成献力献策!觉得符合主题的就可以在后面跟帖,并最终整理成网络版书籍.



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同一分析人员在同一条件下测定结果的精密度称为“重复性”;
不同实验室所得测定结果的精密度称为“再现性”;
精密度
精密度是指使用同一方法,对同一试样进行多次测定所得测定结果一致程度。
精密度常用测定结果的标准偏差s或相对标准偏差sr量度.
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原子发射光谱法包括了三个主要的过程,即:
*由光源提供能量使样品蒸发、形成气态原子、并进一步使气态原子激发而
产生光辐射;
*将光源发出的复合光经单色器分解成按波长顺序排列的谱线,形成光谱;
用检测器检测光谱中谱线的波长和强度。

  由于待测元素原子的能级结构不同,因此发射谱线的特征不同,据此可对样品进行定性分析;而根据待测元素原子的浓度不同,因此发射强度不同,可实现元素的定量测定。
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原子的壳层结构
  原子是由原子核与绕核运动的电子所组成。每一个电子的运动状态可用主量子数n、角量子数l、磁量子数ml 和自旋量子数mi 等四个量子数来描述。
主量子数n,决定了电子的主要能量E。
角量子数l,决定了电子绕核运动的角动量。电子在原子核库仑场中在一个平面上绕核运动,一般是沿椭圆轨道运动,是二自由度的运动,必须有两个量子化条件。这里所说的轨道,按照量子力学的含义,是指电子出现几率大的空间区域。对于一定的主量子数n,可有n个具有相同半长轴、不同半短轴的轨道,当不考虑相对论效应时,它们的能量是相同的。如果受到外电磁场或多电子原子内电子间的相互摄动的影响,具有不同l的各种形状的椭圆轨道因受到的影响不同,能量有差别,使原来简并的能级分开了,角量子数l最小的、最扁的椭圆轨道的能量最低。
磁量子数ml,决定了电子绕核运动的角动量沿磁场方向的分量。所有半长轴相同的在空间不同取向的椭圆轨道,在有外电磁场作用下能量不同。能量大小不仅与n和l有关,而且也与ml有关。
自旋量子数ms,决定了自旋角动量沿磁场方向的分量。电子自旋在空间的取向只有两个,一个顺着磁场;另一个反着磁场,因此,自旋角动量在磁场方向上有两个分量。

  电子的每一运动状态都与一定的能量相联系。主量子数n决定了电子的主要能量,半长轴相同的各种轨道电子具有相同的n,可以认为是分布在同一壳层上,随着主量子数不同,可分为许多壳层,n=1的壳层,离原子核最近,称为第一壳层;依次n=2、3、4、……的壳层,分别称为第二、三、四壳层……,用符号K、L、M、N、……代表相应的各个壳层。角量子数l决定了各椭圆轨道的形状,不同椭圆轨道有不同的能量。因此,又可以将具有同一主量子数n的每一壳层按不同的角量子数l分为n个支壳层,分别用符号s、p、d、f、g、……来代表。原子中的电子遵循一定的规律填充到各壳层中,首先填充到量子数最小的量子态,当电子逐渐填满同一主量子数的壳层,就完成一个闭合壳层,形成稳定的结构,次一个电子再填充新的壳层。这样便构成了原子的壳层结构。周期表中同族元素具有相类似的壳层结构。
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原子发射光谱的干扰与校正--光谱干扰(一)
在发射光谱中最重要的光谱干扰是背景干扰。带状光谱、连续光谱以及光学系统的杂散光等,都会造成光谱的背景。其中光源中未离解的分子所产生的带状光谱是传统光源背景的主要来源,光源温度越低,未离解的分子就越多,因而背景就越强。在电弧光源中,最严重的背景干扰是空气中的N2 与碳电极挥发出来的C 所产生的稳定化合物CN分子的三条带状光谱,其波长范围分别是353-359nm,377-388nm和405-422nm,干扰许多元素的灵敏线。此外,仪器光学系统的杂散光到达检测器,也产生背景干扰。由于背景干扰的存在使校正曲线发生弯曲或平移,因而影响光谱分析的准确度,故必须进行背景校正。
  校正背景的基本原则是,谱线的表观强度I1+b减去背景强度Ib 。常用的校正背景的方法有离峰校正法和等效浓度法。
离峰校正法
  离峰校正法,是在被测谱线附近两侧测量背景强度、取其平均值作为被测谱线的背景强度Ib。若是均匀背景,以谱线的任一侧的背景强度作为被测谱线的背景强度。对于光电记录光谱法,离峰位置可由置于光路中的往复移动的石英折射板来控制。对于照相记录光谱法,离峰位置可通过移动谱板来调节。
  当用背景强度为内标时,背景校正更为简便。此时,谱线强度与背景强度比R的对数为:

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