主题:【求助】石墨炉测Cr,空白高,标准物质却在标准范围内,什么原因呢?

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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧

老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb

怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??

按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡  然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!

步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??

坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。

用的是哪个类型的坩埚?材质??

聚四氟乙烯的坩埚
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碰到好几个石墨管空白高的  不知到是不是石墨管的问题

如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题

就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948  我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?

哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??

不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!

吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??

没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?
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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧

老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb

怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??

按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡  然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!

步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??

坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。

用的是哪个类型的坩埚?材质??

聚四氟乙烯的坩埚

这个还没有用过,居然有了这个材质的坩埚,呵呵,大哥OUT了
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碰到好几个石墨管空白高的  不知到是不是石墨管的问题

如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题

就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948  我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?

哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??

不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!

吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??

没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?

不用改进剂,你说的这个情况就太正常了,如果用了改进剂就不会出现这个下降的情况啦
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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧

老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb

怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??

按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡  然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!

步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??

坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。

用的是哪个类型的坩埚?材质??

聚四氟乙烯的坩埚

这个还没有用过,居然有了这个材质的坩埚,呵呵,大哥OUT了

额。。。。这个坩埚你都没听过呀?那平常你用啥坩埚呀?都是些什么坩埚呢?消解罐不就是聚四氟乙烯的么?
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碰到好几个石墨管空白高的  不知到是不是石墨管的问题

如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题

就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948  我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?

哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??

不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!

吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??

没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?

不用改进剂,你说的这个情况就太正常了,如果用了改进剂就不会出现这个下降的情况啦

就是嫌加改进剂太麻烦呵呵 几乎就没加过!
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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧

老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb

怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??

按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡  然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!


金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品,即UP-S级或MOS试剂(读作:摩斯试剂)。一般用于半导体,电子管等方面,其杂质最高含量为0.01-10ppm,有的可降低到ppb数量级,金属杂质含量小于1ppb,尘埃等级达到0-2ppb,适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。
可能这个酸不适用来做cr,可以在换用其他酸试试,以前我也出现过空白在20左右个PPB,那时我用的是天津科密欧的光谱纯,后来换用国药的优级纯,空白就正常了,另外你说的这个HF可能杂质多,毕竟是分析纯而不是优级纯,我用的是优级纯HF没有问题,你可以试试不用HF怎么样?水,一般用去离子水或超纯水比较多,像蒸馏水一般满足不了要求吧?器皿用分析纯泡这个没关系,我也是用分析纯泡的,最后石墨管也很重要,用热解涂层的,要空烧和老化
马踏飞燕
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老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb

怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??

按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡  然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!

步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??

坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。

用的是哪个类型的坩埚?材质??

聚四氟乙烯的坩埚

这个还没有用过,居然有了这个材质的坩埚,呵呵,大哥OUT了

额。。。。这个坩埚你都没听过呀?那平常你用啥坩埚呀?都是些什么坩埚呢?消解罐不就是聚四氟乙烯的么?

说的是呀,消解罐的内衬的确是聚四氟乙烯的,我做食品用的坩埚不是这个材料,多数是陶瓷或者石英的,其实聚四氟乙烯和镍坩埚是不是差不多?
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如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题

就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948  我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?

哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??

不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!

吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??

没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?

不用改进剂,你说的这个情况就太正常了,如果用了改进剂就不会出现这个下降的情况啦

就是嫌加改进剂太麻烦呵呵 几乎就没加过!

石墨炉测定的时候仪器自动加改进剂嘛,又不麻烦的
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如果空白偏高,那样品和标准物质不是也应该偏高吗?那我的样品到底是要不要扣除空白呢
原文由 秋月芙蓉(ljhciq) 发表:
酸的纯度不好导致空白偏高的原因多见
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