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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧
老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb
怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??
按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡 然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!
步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??
坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。
用的是哪个类型的坩埚?材质??
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碰到好几个石墨管空白高的 不知到是不是石墨管的问题
如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题
就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948 我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?
哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??
不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!
吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??
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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧
老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb
怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??
按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡 然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!
步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??
坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。
用的是哪个类型的坩埚?材质??
聚四氟乙烯的坩埚
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碰到好几个石墨管空白高的 不知到是不是石墨管的问题
如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题
就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948 我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?
哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??
不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!
吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??
没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?
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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧
老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb
怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??
按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡 然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!
步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??
坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。
用的是哪个类型的坩埚?材质??
聚四氟乙烯的坩埚
这个还没有用过,居然有了这个材质的坩埚,呵呵,大哥OUT了
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碰到好几个石墨管空白高的 不知到是不是石墨管的问题
如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题
就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948 我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?
哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??
不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!
吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??
没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?
不用改进剂,你说的这个情况就太正常了,如果用了改进剂就不会出现这个下降的情况啦
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如果有机纯酸不好,那么就用MOS级别的吧
老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb
怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??
按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡 然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!
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老哥啊 我用的MOS级别的空白还是22ppb
怎么回事,含量如此之高,如何做实验的??
按标准方法来的啊 我消解罐是用自来水泡 然后用蒸馏水润洗三次 用滤纸擦干外壁,然后称样,用移液器加入5毫升MOS级硝酸,然后加入0.5毫升分析纯氢氟酸,消解,消解后转移到聚四氟乙烯坩埚赶酸。坩埚是用硝酸泡过的,然后用蒸馏水润洗三次,蒸到近干,用移液器加入1毫升MOS级硝酸,用蒸馏水吹吸坩埚壁。加热提取。转移到五十毫升容量瓶中。容量瓶是用热的硝酸泡过,然后用蒸馏水润洗三次的!最后上机测定!真找不出问题了。。。现在我想的原因可能有两个。一个是氢氟酸,还有一个就是我泡器皿用的是分析纯的酸,但是我都用蒸馏水润洗过的呀!崩溃中。。。空白就没有低于22ppb过!
步骤明确,可能的是氢氟酸问题,再仔细看看坩埚有没有破损,有时候坩埚出现定点破损也会含量很高,这个值得注意一下,空白如此高,还怎么测定样品??
坩埚没有破损,都是我精挑细选的。。。就是因为空白太高,我加酸全是用移液枪准确加入的,最后直接减空白,这也是没有办法的办法了。。。
用的是哪个类型的坩埚?材质??
聚四氟乙烯的坩埚
这个还没有用过,居然有了这个材质的坩埚,呵呵,大哥OUT了
额。。。。这个坩埚你都没听过呀?那平常你用啥坩埚呀?都是些什么坩埚呢?消解罐不就是聚四氟乙烯的么?
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如果狼牛牛用耶拿进口的石墨管,那是热解涂层的,同一批应该不至于出现这么多问题
就是用的原装石墨管呀!还有今天做银更有趣,第一次做出来相关系数0.9948 我直接不管了,曲线重做,相关系数0.9995,我欲哭无泪啊!我预热至少有一个小时,老哥 这问题在哪呀?
哈哈,崩溃了,你没有查看是那个点的问题,一下子曲线变的这么好??
不是一个点的问题 是好几个点的问题 因为我试着删除两个点,线性还是不好 我直接就重做,这下线性一下就上来了,不过有个问题就是吸光度整体下降了一半!!!
吸光度全部下降了一半??用改进剂了没??
没有用改进剂,我做的是标准溶液,相当于是在实验仪器!所以就没加,不过我测定样品的时候发现,样品峰型很好看,但是背景峰型太大了,很难看,但是测定出来的结果似乎都是正确的,这种情况是不是加入了机体改进剂背景峰就会变完美了?
不用改进剂,你说的这个情况就太正常了,如果用了改进剂就不会出现这个下降的情况啦
就是嫌加改进剂太麻烦呵呵 几乎就没加过!