反射功率的定义:
高频电能通过耦合线圈产生高频电磁场,从而输送稳定的高频电能给plasma,但是耦合线圈并不能完全吸收所有的功率,就会有部分功率被反射回功率放大器,这就是反射功率。反射功率增大的主要原因是由于plasma不稳定造成的,具体因素可能是炬管粘污,锥脏了,高频屏蔽不好,功率放大器工作不稳定,耦合电容不稳定等等。
一般点火状态下反射功率好像要求在12W以内比较好,但是在点火瞬间反射功率
值,正常情况为200瓦~400瓦,否则说明RF发生器输出不正常。当发生反射功率过大的时候,容易损坏射频发生器。所以点火后要仔细观察反射功率的值,当出现增大的时候除了要清洗系统外,不知道你有没有考虑过做功率匹配呢?
楼主,以前很少关注发射功率,好像每次做样都维持在2W,但是前不久仪器电源挂掉了以后,更换新电源的时候,我才明白反射功率真正的含义。因为换了新电源再次点火的时候发现发射功率超过了10W,于是工程师做了下功率匹配。就是在调谐界面调整了下RF Matching电压,从2V调到了1.81V,反射功率此时在2W。这个电压并不是越低越好,它与发射功率呈现一个反正弦曲线的关系。如下图,图画得难看了点,到时候再修饰吧,有会做图的帮个忙也行感兴趣的大家可以试一试!其中有说的不合适的的地方欢迎指正!