国内权威书籍将ICP-AES光谱分析中的干扰分为两大类:非光谱干扰与
光谱干扰.
非光谱干扰:指由基体效应引起,但分析元素的分析线与干扰线并未发
生谱线重叠或线翼叠重,产生机理有电离平衡理论及上面
的提及的,至于接受哪种理论,目前似乎还未定论,对于非
光谱干扰可通过以下措施进行有效决校正:
a.数学处理,如经验系数和干扰因子校正法.
b.联机处理,如与IC,CE,FI等仪器联用.
c.氢化物发生法(对能生成气态氢化物的元素而言).
光谱干扰: 指分析线与干扰线发生谱线重叠或线翼重叠,相对于非光
谱干扰而言,光谱干扰较难处理,但可通过以下措施进行解
决:
a.采用高分辨率的分光系统,如带有预散系统的闪耀光栅,
Fabry-Petrot干涉仪,傅立叶变换光谱仪(FT-ICP-AES)等.
另外,高分辨率的分光系统还可进行同位素光谱分析.
b.数学处理,如K系数法,改进的干扰系数法,逐步逼进校正法等.
c.联机处理,同上.
d.氢化物发生法,同上.
由于ICP-AES与DCP,MIP,CMP等光源相较,背景小,且可通过背景
校正技术进行有效校正,相对于非光谱干扰及光谱干扰,已可忽
略不计,故目前对于背景干扰提及的不是很多.
由上可见,无论对于非光谱干扰还是光谱干扰,联用技术都是解决各
种干扰问题的最佳方案,不但如此,它还可解决形态分析中的许多问题,故
我想CE,IC,FI等与ICP-AES联用技术是今后ICP-AES的发展方向,而且前景
是相当吸引人的.
以上有误或不完全的地方,还望指正交流,谢谢!