醋老西回复于2006/06/08
日本JSR面向浸液ArF(氟化氩)曝光用途开发成功折射率为1.64的高折射率液体后,在业界引起了轰动。最近美国杜邦公司也开发出了折射率为1.644、吸光率为0.083/cm的高折射率液体。在“第30届SPIE微蚀刻技术国际研讨会”的有关浸液材料联合研讨会上进行了技术发表。
杜邦此次开发出了多种折射率超过1.6的液体。其中吸光率最低的为“IF132”液体,对光波长193nm的折射率为1.644,吸光率为0.083/cm。另外,折射率最高的“IF175”实现了1.664的折射率。该公司表示,使用“IF131”(折射率为1.642,吸光率为0.17/cm)和IF132,利用荷兰ASML公司的双光束干涉曝光装置,对线宽/线间隔为32nm的图案进行了成像。
单从折射率与透过率的数字来看,杜邦开发的产品与JSR发表的折射率(1.64)和透过率(98%)非常接近。不过,由于杜邦没有公布其与光刻胶的反应性能、折射率的再现性、液体粘度以及表面张力等浸液曝光材料所需的各种特性数据,因此很多技术人员认为,该技术的实力到底如何目前还不清楚。另外,材料的详情也没有公布,不过有猜测说可能是氟类有机溶剂。
gardener回复于2006/06/08
找点表活试试