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主题：我有几年的薄膜设备和等离子刻蚀设备使用经验，大家有什么问题一起讨论下

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lilele
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发表于：2006/11/14 16:59:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我比较熟的产品有MBE，磁控溅射，电子束蒸发，PLD，PECVD，等离子刻蚀RIE,ICP.如果大家在这方面有什么问题，非常愿意与大家交流，如果想采购这类产品和组件，或这方面的任何需求，我都可以向你推荐，可以发mail给我，lhm115011@gmail.com
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2006/11/16 22:33:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
一般的讲有针对硅工艺的刻蚀和针对iii-v族的刻蚀，他们因为材料性质的不同刻蚀工艺会有差别。现在主流的都采用icp的模式，rie属于低端的使用。刻蚀宽度一般在次微米级。

还有什么问题大家随便问////
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lilele
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2006/11/27 9:49:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
这要看你使用什么设备去刻蚀，你是使用湿法刻蚀还是干法刻蚀，干法的话是ICP模式还是RIE模式
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2006/12/7 20:47:00 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
湿法刻蚀就是用化学药液直接刻蚀，干法刻蚀就是用等离子体直接刻蚀，ＩＣＰ就是用感应耦合等离子的方式，ＲＩＥ就是用反应等离子的方式进行刻蚀，我现在从事这方面的技术和销售，有任何问题，请不要客气，有问必答．
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2006/12/8 16:19:00 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
湿法刻蚀现在逐渐被淘汰了，不想再说。就干法刻蚀而言ICP模式的刻蚀速度在1um/min以上，最高的可达10um/min，RIE模式的最高在3~7um/min左右，但是刻蚀速度并不是最重要的。最主要的还是可使效果，这主要根据你刻蚀的材料和要求而定。
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2006/12/8 20:55:00 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
其实干法刻蚀对基板来说是很伤的
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2006/12/18 15:37:00 11楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
那肯定是没有问题的，你要知道具体的刻蚀选择比，你得让我知道你用什么设备刻蚀，最好让我知道是哪个厂家的。
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2006/12/18 15:51:00 12楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
除了设备之外，关于抛光和清洗的问题，我也可以给大家一些指导，大家有什么问题，有问必答，不要客气！
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lilele
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2007/1/9 17:38:00 14楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
AZ8900是正型光刻胶，在行业内很有名气。在苏州和上海都有销售，其它地方均是它的分销商。    还有其他问题吗？ 请不要客气！ 有问必答！
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lilele
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2007/1/11 9:44:00 16楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你就要这个型号吗？需求量多少？我看你是从厂家买还是从分销商那里买方便，还有请告诉我你在那个城市，如果能告诉我你的单位最好。我会推荐你最方面的采购方式。
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jhf214
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2007/4/16 19:10:00 17楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
对头就是这样
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