问题描述:半导体用超纯水如何分析?
解答:
超纯水(UPW)被广泛地用于半导体器件生产中所有湿法工艺步骤,包括晶片冲洗和化学品的稀释。在这些关键步骤中,可能会吸收来自化学浴和冲洗水中的污染物,然后通过一系列的化学和电化学反应沉淀到硅表面。在成品的重点区域中,如果金属污染物的浓度达到 50 ppq,就会改变集成电路部件的电气参数,导致其无法通过电气测试。因此,超纯水纯度测定至关重要。在 SEMI F63-0918《半导体加工中超纯水使用指南》中,除 B(50 ppt)和 Ni(3 ppt)外,26 种金属污染物的目标值应小于 1 ppt。![]()
某Fab厂超纯水要求
ICP-MS分析超纯水受干扰元素,如下表,可以采用冷等离子体技术、碰撞反应池或两者相结合的技术消除相关干扰。 ![]()
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NexION 2000典型的超纯水背景等效浓度
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NexION 5000 超纯水分析典型的检出限和背景等效浓度(热等离子1600W,超净间10000级)*[9]
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NexION 5000 超纯水分析典型的检出限和背景等效浓度(冷等离子700W,超净间10000级)*[9]
以上内容来自仪器信息网《
ICP-MS实战宝典》