主题:【讨论】ICP 二氧化硅 准确度

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beijingmll
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在日常工作中,经常测定常量和微量的二氧化硅。我使用的是PE OPTIMA2100发射光谱仪,测定二氧化硅含量从0.01%到99.9%。用ICP测定低SiO2含量时结果还是比较准确的,但当SiO2含量较高时(比如20%以上),测定结果就会与化学分析法有明显偏差。
请ICP测硅高入指点,高二氧化硅含量的样品用ICP测定是否可行?准确度可否达到95%?
如果解决了以上两个问题,那化学法测硅就可以不用,分析效率将会大大提高。
请多多指教。
谢谢。
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peter
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我们用的也是PE的,我感觉测定硅有一定的难度。我们测定时也是与化学法有很大的误差。我们测定浓度是0.1-0.2PPM,你们的浓度挺高的吧,你们化学法是怎么测的。描述一下。
popo
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百分之几十的含量还是化学法准确啊,

但是如果你做高纯SI,那就做杂质来减扣就好了!
风之灵
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原文由 popo 发表:
百分之几十的含量还是化学法准确啊,

但是如果你做高纯SI,那就做杂质来减扣就好了!


高含量还是化学检测准确度高些,当然ICP法配合内标校正也可以大幅提高精度。

高纯的还是测定杂质含量用差减法来计算。也可以用重量法来测定(HF酸跑硅)。
SOMS课题组
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木偶
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原文由 soms-jameskin 发表:
按理来说ICP测硅不能测的吧,阴离子线找的到??


你这话就知道根本对ICP完全是门外汉,连ICP的原理都不清楚。
may0105
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高二氧化硅含量的样品用ICP测定,在测定过程中要稀释才行吧,当中可能存在稀释误差,特别是稀释系数很大时,正如2楼所说,当测定样品中二氧化硅含量很高时,测定其他杂质的含量,用扣除法得到二氧化硅的含量
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