主题：【求助】ICP MS测试样，超纯水背景值高

原文由 辛妈(lsq521) 发表:
而且做土壤的内标Rh的计数在40W+
做水的时候内标在20W+
首先确定样品里是否含有Rh，如果有的话就不能用Rh做内标了，也有可能样品基体干扰大，如果是这样过的话可以采用标准加入法。

原文由 simoun(simoun) 发表:

原文由 辛妈(lsq521) 发表:
而且做土壤的内标Rh的计数在40W+
做水的时候内标在20W+
首先确定样品里是否含有Rh，如果有的话就不能用Rh做内标了，也有可能样品基体干扰大，如果是这样过的话可以采用标准加入法。

标准加入法是什么方法？

原文由 simoun(simoun) 发表:

原文由 金水楼台先得月(albert800922) 发表:
继续清洗管路。

管路已经清洗过了，锥也洗过了，背景值能下来，但是样品空白很高，就Cd而言，样品空白比样品还高，不知道是怎么回事，用超纯水做空白值就低了，开始怀疑是不是烧杯的问题，烧杯确认清洗干净了，那会不会是其他元素的干扰呢？

原文由 jounyyan(jounyyan) 发表:
我用的是热电的x2,我也遇到过此类问题。后来发现时灰尘所致仪器的屏蔽不好。打磨屏蔽门的铜片，RF发生器的屏蔽的铜片，拧紧接地螺丝后问题解决。

原文由 simoun(simoun) 发表:

原文由 jounyyan(jounyyan) 发表:
我用的是热电的x2,我也遇到过此类问题。后来发现时灰尘所致仪器的屏蔽不好。打磨屏蔽门的铜片，RF发生器的屏蔽的铜片，拧紧接地螺丝后问题解决。

我现在是把铂金圈拿下来了，就是在矩管外面那层的。听说拿下来会好些，所以我打算试试呢。

原文由 leemoonling(leemoonling) 发表:

原文由 simoun(simoun) 发表:

原文由 jounyyan(jounyyan) 发表:
我用的是热电的x2,我也遇到过此类问题。后来发现时灰尘所致仪器的屏蔽不好。打磨屏蔽门的铜片，RF发生器的屏蔽的铜片，拧紧接地螺丝后问题解决。

我现在是把铂金圈拿下来了，就是在矩管外面那层的。听说拿下来会好些，所以我打算试试呢。

拿下来后有变化吗？

原文由 simoun(simoun) 发表:

原文由 leemoonling(leemoonling) 发表:

原文由 simoun(simoun) 发表:

原文由 jounyyan(jounyyan) 发表:
我用的是热电的x2,我也遇到过此类问题。后来发现时灰尘所致仪器的屏蔽不好。打磨屏蔽门的铜片，RF发生器的屏蔽的铜片，拧紧接地螺丝后问题解决。

我现在是把铂金圈拿下来了，就是在矩管外面那层的。听说拿下来会好些，所以我打算试试呢。

拿下来后有变化吗？

拿下来没什么太大的变化，就是计数变大了点，工程师的意思是那个拿掉会灵敏度上升、