主题:【讨论】石墨炉测铅的标准曲线线性很好,做质控物质时候却很差!

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悠旸
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楼上几位说的对,主要是没使用基改灰化温度上不去,在原子化阶段背景干扰过大所致,就您的质控样使用基改是必须的,最好的基改是10 ppm的 Pd,当然也可用磷酸氢二铵或者硝酸镁等。对于石墨炉最好使用硝酸基体,最好不用HCL
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原文由 悠旸(ihqs) 发表:
楼上几位说的对,主要是没使用基改灰化温度上不去,在原子化阶段背景干扰过大所致,就您的质控样使用基改是必须的,最好的基改是10 ppm的 Pd,当然也可用磷酸氢二铵或者硝酸镁等。对于石墨炉最好使用硝酸基体,最好不用HCL


请问,为什么用10ppm的PB做基改?那样不会加大样品值的含量么最后?
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原文由 双面娃娃(xiashi120) 发表:
LZ标准曲线的最高浓度点才10ppb,
请问一下,LZ取样量是多少?
最终样品溶液的理论上浓度是多少?

如果是干法处理的话,取样量应在1g以上,那么定容至25ml,样液浓度理论上应该在56~72ppb,样液应该是稀释上机的吧?


我质控物质称的0.5克,定容的25ml。之所以用10ppb的浓度为最高点,是因为前天在原子荧光上面做的时候,10ppb点的荧光值和质控物质的荧光值差不多,所以才用的这个点。我觉得应该在原吸上的吸光值也是差不多的,但是实际上测出来的吸光值才只有0.04左右
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2012/3/12 14:53:06 Last edit by tianyamingye
wmj31
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楼上几位说的对,主要是没使用基改灰化温度上不去,在原子化阶段背景干扰过大所致,就您的质控样使用基改是必须的,最好的基改是10 ppm的 Pd,当然也可用磷酸氢二铵或者硝酸镁等。对于石墨炉最好使用硝酸基体,最好不用HCL


请问,为什么用10ppm的PB做基改?那样不会加大样品值的含量么最后?

是Pd,不是Pb,呵呵,用硝酸钯做铅的基体改机剂蛮好的,灰化温度可以较高。
chemistryren
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原文由 双面娃娃(xiashi120) 发表:
LZ标准曲线的最高浓度点才10ppb,
请问一下,LZ取样量是多少?
最终样品溶液的理论上浓度是多少?

如果是干法处理的话,取样量应在1g以上,那么定容至25ml,样液浓度理论上应该在56~72ppb,样液应该是稀释上机的吧?


我质控物质称的0.5克,定容的25ml。之所以用10PPB的浓度为最高点,是因为前天在原子荧光上面坐的时候,10PPB点的荧光值和质控物质的荧光值差不多,所以才用的这个点。我觉得应该在原吸上的吸光值也是差不多的,但是实际上测出来的吸光值才只有0.04左右

茶叶的铅含量:1.4--1.8mg/kg,称取0.5g,定容至25ml,样液浓度理论上应该在28~36ppb呀。荧光上应该也是超过其最高浓度点,应该是稀释之后做的吧?
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楼上几位说的对,主要是没使用基改灰化温度上不去,在原子化阶段背景干扰过大所致,就您的质控样使用基改是必须的,最好的基改是10 ppm的 Pd,当然也可用磷酸氢二铵或者硝酸镁等。对于石墨炉最好使用硝酸基体,最好不用HCL


请问,为什么用10ppm的PB做基改?那样不会加大样品值的含量么最后?

是Pd,不是Pb,呵呵,用硝酸钯做铅的基体改机剂蛮好的,灰化温度可以较高。


哈哈,我看错了看错了,我还奇怪呢我
悠旸
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不是Pb,是Pd(钯,硝酸钯)
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楼上几位说的对,主要是没使用基改灰化温度上不去,在原子化阶段背景干扰过大所致,就您的质控样使用基改是必须的,最好的基改是10 ppm的 Pd,当然也可用磷酸氢二铵或者硝酸镁等。对于石墨炉最好使用硝酸基体,最好不用HCL


请问,为什么用10ppm的PB做基改?那样不会加大样品值的含量么最后?
guojingyi-2010
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原文由 wnnzl(wnnzl) 发表:
灰化温度太低了,样品可能没完全被灰化,原子化温度1800??
因为没有加基体改进剂,所以温度设为1800是对的,我们就这样,也很正常啊
狼牛牛
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楼上几位说的对,主要是没使用基改灰化温度上不去,在原子化阶段背景干扰过大所致,就您的质控样使用基改是必须的,最好的基改是10 ppm的 Pd,当然也可用磷酸氢二铵或者硝酸镁等。对于石墨炉最好使用硝酸基体,最好不用HCL


请问,为什么用10ppm的PB做基改?那样不会加大样品值的含量么最后?

额。。。是pd不是pb  是钯不是铅
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