主题：【讨论】GCMS有木有基质干扰？

原文由 蓝是那么的天(matt_zheng) 发表:
最近我们碰到一个很严重的基材干扰，干扰峰把目标峰完全掩盖，并且由于干扰峰浓度较大，导致目标峰的特征离子丰度很低。

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 木有才(xgy2005) 发表:
中间插入基质的前后标准品响应差别较大，特别是出峰时间靠后的化合物，是怎么回事？

请问能不能举个中间插入基质的例子？

原文由 木有才(xgy2005) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 木有才(xgy2005) 发表:
中间插入基质的前后标准品响应差别较大，特别是出峰时间靠后的化合物，是怎么回事？

请问能不能举个中间插入基质的例子？

估计是我表述不清楚，就是先进一针标准品后，连续进几针样品，再进一针标准品，发现，后面的标准品响应比前面那针高出很多

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 蓝是那么的天(matt_zheng) 发表:
最近我们碰到一个很严重的基材干扰，干扰峰把目标峰完全掩盖，并且由于干扰峰浓度较大，导致目标峰的特征离子丰度很低。

我也遇到过，测定邻苯的时候，有的样品基质把前面几个邻苯都遮住了，且出峰时间一样也有相同的离子，用其它分离方法也无除去干扰物。

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 木有才(xgy2005) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 木有才(xgy2005) 发表:
中间插入基质的前后标准品响应差别较大，特别是出峰时间靠后的化合物，是怎么回事？

请问能不能举个中间插入基质的例子？

估计是我表述不清楚，就是先进一针标准品后，连续进几针样品，再进一针标准品，发现，后面的标准品响应比前面那针高出很多

会不会是仪器不稳定呢？还是进过样品之后，样品基质影响呢？多数情况是进样品后，衬管有东西使目标物可能吸附，而响应减少，响应变高的情况好像少。

原文由 蓝是那么的天(matt_zheng) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 木有才(xgy2005) 发表:

原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

原文由 木有才(xgy2005) 发表:
中间插入基质的前后标准品响应差别较大，特别是出峰时间靠后的化合物，是怎么回事？

请问能不能举个中间插入基质的例子？

估计是我表述不清楚，就是先进一针标准品后，连续进几针样品，再进一针标准品，发现，后面的标准品响应比前面那针高出很多

会不会是仪器不稳定呢？还是进过样品之后，样品基质影响呢？多数情况是进样品后，衬管有东西使目标物可能吸附，而响应减少，响应变高的情况好像少。

一般是认为基材的干扰容易导致仪器不稳定使后走的标液响应值降低，这个在PBDE的测试中表现比较明显。但是我之前也碰到过响应变高又降低的情况，应该是第一针标液时仪器还没有稳定导致的。

原文由 蓝是那么的天(matt_zheng) 发表:
最近我们碰到一个很严重的基材干扰，干扰峰把目标峰完全掩盖，并且由于干扰峰浓度较大，导致目标峰的特征离子丰度很低。

原文由 木有才(xgy2005) 发表:

原文由 jiangwibo(jiangwibo) 发表:
基质干扰倒不会，不过一般会因为不同基质形成共沸物的沸点不同造成岀峰时间上可能会有差异。溶剂差别越大，岀峰时间差异就越大。

碰到过溶剂是一样的，基质不一样，保留时间差别较大的情况，比如大姜

原文由 木有才(xgy2005) 发表:
中间插入基质的前后标准品响应差别较大，特别是出峰时间靠后的化合物，是怎么回事？