主题：【原创】晒单位和仪器等送积分啦

原文由 swordgang(swordgang) 发表:
前处理设备微波消解仪，分析设备HPLC-ICP-MS，操作台比较乱，整天乱做呵呵

原文由 qinghui1988(qinghui1988) 发表:

您好，您说的锥上面的那层白色的氧化硅、二氧化硅，我建议您可以用5%的HNO3擦洗，应该能洗掉，我没有做硅做的是硒，每次做完都用5%的HNO3擦洗，再用超纯水洗。

这个，白色的那层基本是二氧化硅，硝酸还真心是洗不掉的。。。HF+HNO3来泡洗，都难以清洗干净的。

只是HF+HNO3泡洗，难以避免涉及到黄铜基座，怕哪天把锥尖给洗下来了。所以想征求下各位版友，有没有其他好的办法。

原文由 光哥(xsh1234567) 发表:

原文由 qinghui1988(qinghui1988) 发表:

您好，您说的锥上面的那层白色的氧化硅、二氧化硅，我建议您可以用5%的HNO3擦洗，应该能洗掉，我没有做硅做的是硒，每次做完都用5%的HNO3擦洗，再用超纯水洗。

这个，白色的那层基本是二氧化硅，硝酸还真心是洗不掉的。。。HF+HNO3来泡洗，都难以清洗干净的。

只是HF+HNO3泡洗，难以避免涉及到黄铜基座，怕哪天把锥尖给洗下来了。所以想征求下各位版友，有没有其他好的办法。

  用攒着氢氟酸/氢氧化钠等强碱的棉签搽洗吧，毕竟其它的不与其反应啊。

原文由 envirend(envirend) 发表:

原文由 光哥(xsh1234567) 发表:

原文由 qinghui1988(qinghui1988) 发表:

您好，您说的锥上面的那层白色的氧化硅、二氧化硅，我建议您可以用5%的HNO3擦洗，应该能洗掉，我没有做硅做的是硒，每次做完都用5%的HNO3擦洗，再用超纯水洗。

这个，白色的那层基本是二氧化硅，硝酸还真心是洗不掉的。。。HF+HNO3来泡洗，都难以清洗干净的。

只是HF+HNO3泡洗，难以避免涉及到黄铜基座，怕哪天把锥尖给洗下来了。所以想征求下各位版友，有没有其他好的办法。

  用攒着氢氟酸/氢氧化钠等强碱的棉签搽洗吧，毕竟其它的不与其反应啊。

添加的ＨＦ酸的浓度太低了，用浓度高点的HF，反正我是这样干的（主要是在跑硅的时候没有跑干净）

原文由 maerbing(maerbing) 发表:

原文由 envirend(envirend) 发表:

原文由 光哥(xsh1234567) 发表:

原文由 qinghui1988(qinghui1988) 发表:

您好，您说的锥上面的那层白色的氧化硅、二氧化硅，我建议您可以用5%的HNO3擦洗，应该能洗掉，我没有做硅做的是硒，每次做完都用5%的HNO3擦洗，再用超纯水洗。

这个，白色的那层基本是二氧化硅，硝酸还真心是洗不掉的。。。HF+HNO3来泡洗，都难以清洗干净的。

只是HF+HNO3泡洗，难以避免涉及到黄铜基座，怕哪天把锥尖给洗下来了。所以想征求下各位版友，有没有其他好的办法。

  用攒着氢氟酸/氢氧化钠等强碱的棉签搽洗吧，毕竟其它的不与其反应啊。

添加的ＨＦ酸的浓度太低了，用浓度高点的HF，反正我是这样干的（主要是在跑硅的时候没有跑干净）

1:1=HF(38%)：HNO3(40%)，还是不容易洗干净。锥尖泡着洗，洗完吹干，还是可以明显地看到有白色覆盖层，虽然量少了很多。

原文由 envirend(envirend) 发表:
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单位性质：（质检、农检、卫生、进出口检验检疫、食品检测、环境监测、高校、科研院所、企业等等）

分析对象：（水质、土壤、大气、食品。。。。。等等）

仪器型号/安装年月：

仪器分析人员学历：（大专、本科、研究生、博士生）

备注： 如仪器图片/对本版块中肯建议等等

原文由 kakadi(kakadi) 发表:
用屈臣氏的尖头的化妆棉，蘸5%硝酸擦拭就行。锥可以用水超声