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主题：【第六届原创】高纯硅中超痕量级钛元素分析测试干扰源及其消除方法探讨

浏览0 回复13 电梯直达
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symmacros
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2013/8/4 13:14:20 11楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 noob(noob) 发表:
原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

请问楼主有没有实际例子？


朱老师，上ICPMS串门来了？热烈欢迎指导


那么痕量的Ti，感觉不好测，想了解学习一下。
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光哥
xsh1234567
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2013/8/4 15:32:27 12楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 symmacros(jimzhu) 发表:
请问楼主有没有实际例子？


有的，这些都是实际做样过程中发现的，只是最近老是在搞羟值滴定以及硅溶胶测试的实验，因此Ti元素实际测试数据还没有综合整理。但是信息都是真实的，包括询问PM陈博士。只是我理论知识比较薄弱，有些地方肯定说得不好或者错误，请指正。
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2013/8/4 15:34:34 Last edit by xsh1234567
littalnala
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2013/8/5 23:11:10 13楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
还没用过ICP-MS，先 来了解下，感谢LZ的分享！
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手机版： 高纯硅中超痕量级钛元素分析测试干扰源及其消除方法探讨
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