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主题：谁能告诉我：硅的测量

浏览0 回复10 电梯直达
liushiyi806
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发表于：2004/09/27 11:18:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
在使用HF溶样的情况下能否测量其中的痕量硅
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2004/9/27 18:03:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
什么样品？？？？？
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liushiyi806
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2004/9/29 10:26:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
比如说氧化钽
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qwertyuiop
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2004/10/5 9:23:00 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
比较难, 如果使用高纯氩, 并且溶样时不用硝酸, 可能好一些.
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GARCE_CHENYH
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2004/10/13 23:21:00 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
第一,测Si时溶样加HF一定要小心Si形成SiF4跑了;
第二,尽量避免加HNO3,N有干扰.
第三,试试用碱熔.
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renzhihai
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2004/10/14 6:42:00 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
推荐使用偏硼酸锂
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liushiyi806
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2004/10/14 9:50:00 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
具体如何操作请指教。

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renzhihai
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2004/10/14 12:09:00 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你可以去资料中心去看看
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donor
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2004/11/23 21:37:00 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
请问金属镓中的  硅如何溶解才好
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cyy2008
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2005/1/28 21:58:00 10楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
碱熔空白较高，可用ＨＦ熔解，水浴低温下加热，别超过６０度．
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vague
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2005/4/19 11:55:00 12楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你作的是半导体吧，这个要求就高了，用半导体级别的硝酸和氢氟酸体系可以解决问题，都不是难容的东西，但是你的仪器要用聚四氟乙烯的体系，应该配备了专业的氢氟酸体系吧。
若用碰撞池作低含量的硅没有问题，高含量的硅不带ORS的仪器也可作
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