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原文由 liang_sp 发表:
不同公司的仪器要求不一样：
AB的仪器的N2不能停，主要是怕外面气体进去污染，如果停气，系统会停真空保护;
TSQ有个东东能堵上锥孔，可以停气。
AB的仪器设计了更严密的保护措施，因为它的那个孔好象不能堵，只能用氮气保护。偶做的LCQ（离子源跟TSQ应差不多），虽然待机时不用氮气也不会停真空，但还是要把锥孔堵起来的（这个不是仪器自动，而你自己要在样品做完后堵），如果不堵，离子源也是会被污染的。工程师一般都会用电晕针来堵锥孔，其实用AGILENT气相用的进样口隔垫更好（用过的就行了，不要用新的），不过要用比较锋利的刀切薄薄的一小片下来，光滑的那一面朝锥孔贴上去就会被吸住。用针堵源区的真空只能上升到0.05-0.06T左右，而用隔垫堵源区真空可达到0.01-0.02T，至少0.02T。
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