原文由 liang_sp 发表:
不同公司的仪器要求不一样:
AB的仪器的N2不能停,主要是怕外面气体进去污染,如果停气,系统会停真空保护;
TSQ有个东东能堵上锥孔,可以停气。
AB的仪器设计了更严密的保护措施,因为它的那个孔好象不能堵,只能用氮气保护。偶做的LCQ(离子源跟TSQ应差不多),虽然待机时不用氮气也不会停真空,但还是要把锥孔堵起来的(这个不是仪器自动,而你自己要在样品做完后堵),如果不堵,离子源也是会被污染的。工程师一般都会用电晕针来堵锥孔,其实用AGILENT气相用的进样口隔垫更好(用过的就行了,不要用新的),不过要用比较锋利的刀切薄薄的一小片下来,光滑的那一面朝锥孔贴上去就会被吸住。用针堵源区的真空只能上升到0.05-0.06T左右,而用隔垫堵源区真空可达到0.01-0.02T,至少0.02T。