1、3种质谱分别都用到什么样的气体?
ICP-MS:主要是Ar,在使用到碰撞池之类的技术时,需要碰撞气,比如He,CH4,NH3等等
LC-MS:主要是N2,用于喷雾,反吹等。做多级质谱时,可能会用到He,Ar等气体
GC-MS:主要是He,CI源可能会用到甲烷,氨气,丁烷等反应气。多级质谱时,可能会用到高纯N2,Ar等,
2、选择气体的依据是什么?
ICP-MS,选择Ar是要形成等离子体焰炬。Ar等离子体相对容易形成。反应气的选择则要进行具体分析。不同公司使用的技术不同。
LC-MS,耗气量很大,N2价廉易得,实属不二之选。反应气的选择同上。
GC-MS,He惰性好,分子量小,便于和其它样品区分。反应气选择同上。
3、3种质谱在气体的使用上有什么相同点?
使用上的共同点都是要具体情况具体分析……
(不足的地方,请楼下补充啊)