主题：【原创】关于火焰分析时三种计算模式的测试结果的比较

原文由 轮回(clf071041) 发表:
还是感觉命名为连续更直观一些，虽然连续法也有积分时间的调整。
请问下楼主：你这里的光谱带宽为1.3nm仪器的灵敏度会比较低吧，我见过有的仪器是0.4nm的光谱带宽测Cu的1mg/L吸光度（连续）为0.1Abs左右。

原文由 nokia121(nokia121) 发表:
我认为火焰用峰高，石墨炉用峰面积是最好的，呵呵。
积分，好多家的仪器上都没有的，哈哈

原文由 夕阳(anping) 发表:

原文由 nokia121(nokia121) 发表:
我认为火焰用峰高，石墨炉用峰面积是最好的，呵呵。
积分，好多家的仪器上都没有的，哈哈

石墨炉用峰面积没错，但是火焰用峰高就有待商榷了。
因为所谓的“峰高”就是在一定的测量时间段内将所测到的所有峰高里最高的那一点记录下来，这个在电路设计上称为“峰值保持电路”；尽管火焰分析时峰高的波动不大，但是还是有影响的，因此火焰使用“连续测量再平均化”的模式较好。
当然，如果样品量不足的测量，例如使用火焰微量进样器时，由于样品量较少，不能满足连续测量，那么只能采用“峰高”模式了。
至于“积分”一词，真的正如007版友所说的那样，可能是日本人用词不当的结果。在这里，所谓火焰“积分”的计算模式，其实就是峰高的连续测量后再平均化的意思。

原文由 shufengliu(shufengliu) 发表:

原文由 夕阳(anping) 发表:

原文由 nokia121(nokia121) 发表:
我认为火焰用峰高，石墨炉用峰面积是最好的，呵呵。
积分，好多家的仪器上都没有的，哈哈

石墨炉用峰面积没错，但是火焰用峰高就有待商榷了。
因为所谓的“峰高”就是在一定的测量时间段内将所测到的所有峰高里最高的那一点记录下来，这个在电路设计上称为“峰值保持电路”；尽管火焰分析时峰高的波动不大，但是还是有影响的，因此火焰使用“连续测量再平均化”的模式较好。
当然，如果样品量不足的测量，例如使用火焰微量进样器时，由于样品量较少，不能满足连续测量，那么只能采用“峰高”模式了。
至于“积分”一词，真的正如007版友所说的那样，可能是日本人用词不当的结果。在这里，所谓火焰“积分”的计算模式，其实就是峰高的连续测量后再平均化的意思。

在这里，我当时的表达可能有些欠妥，更确切的说应该是“平台”高度。日立机器火焰里的“峰高”是针对微量进样而言的，跟“平台”高度有些区别。因为在PE的机器里，没有做这方面的区分，所以我一直把“平台”的高度当作“峰高”来看待。其实就是对于石墨炉利用“峰高”来说，信号处理系统也是采用“平滑”的办法，不是简单取“最高点”。这在张扬祖的书里也提到过。

原文由 重做小学生(langhuashang) 发表:
什么叫积分模式，怎么没有见到过？？孤陋寡闻了？？我的仪器就是个峰面积和峰高两种方式

原文由 夕阳(anping) 发表:

原文由 轮回(clf071041) 发表:
还是感觉命名为连续更直观一些，虽然连续法也有积分时间的调整。
请问下楼主：你这里的光谱带宽为1.3nm仪器的灵敏度会比较低吧，我见过有的仪器是0.4nm的光谱带宽测Cu的1mg/L吸光度（连续）为0.1Abs左右。

首先“还是感觉命名为连续更直观一些，虽然连续法也有积分时间的调整。”这句话没太看懂，是指我帖子中第一种计算模式吗？
其次，关于 1.3nm和0.4nm 两种狭缝下的吸光值没有做过比较，故不敢妄下结论，后天待我做个试验再回答您吧？