原文由 nanjingcpu(xanaducpu) 发表:原文由 悠旸(ihqs) 发表:
狭缝的宽度是对应0.7nm的光学宽度,但对应高度来说是矮的原文由 nanjingcpu(xanaducpu) 发表:原文由 悠旸(ihqs) 发表:
应该是低狭缝,L是low的第一个字母。此外,H代表高狭缝,High的第一个字母
那是不是可以这样写,狭缝宽度 0.7L mm。
好专业,早上看仪器参数的时候就看到nm,但有点搞不懂,发现其他火焰法都是mm,石墨炉是nm,不知道这个0.7nm狭缝宽度怎么还分L H之类的,他们当中有什么区别吗?
原文由 悠旸(ihqs) 发表:
火焰法也是nm吧?似乎狭缝没有使用mm的。
正常情况使用同样宽度的H狭缝光通量大,信噪比会好。但测试某些特殊元素为了减小来自原子化器的光谱干扰使用L狭缝是有优势的,比如石墨炉法测试Ba,由于553.5nm受到石墨管加热辐射光谱的影响,此时使用L狭缝会有较明显优势。原文由 nanjingcpu(xanaducpu) 发表:原文由 悠旸(ihqs) 发表:
狭缝的宽度是对应0.7nm的光学宽度,但对应高度来说是矮的原文由 nanjingcpu(xanaducpu) 发表:原文由 悠旸(ihqs) 发表:
应该是低狭缝,L是low的第一个字母。此外,H代表高狭缝,High的第一个字母
那是不是可以这样写,狭缝宽度 0.7L mm。
好专业,早上看仪器参数的时候就看到nm,但有点搞不懂,发现其他火焰法都是mm,石墨炉是nm,不知道这个0.7nm狭缝宽度怎么还分L H之类的,他们当中有什么区别吗?