主题:【讨论】有关离子源问题

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依风1986
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从事GC-MS的版友。大家应该都有清洗离子源的经历。还记得第一次清洗离子源吗?不同的GC-ms,离子源的设计有区别吗?
该帖子作者被版主 symmacros2积分, 2经验,加分理由:发帖。
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symmacros
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不同离子源的结构会不同,清洗方式也有所不同。清洗要严格安装清洗步骤来做,可以参考录像和说明书等。也可以拆前拍照,以备后面对照。仔细还原,包括接线。
ruan651209
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离子源应是专利申请最多的部位。

没办法,各辟蹊径,造型不可重复。
ruan651209
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原文由 ruan651209(ruan651209) 发表:
离子源应是专利申请最多的部位,看下天瑞的就知。

没办法,各辟蹊径,造型不可重复。
依风1986
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原文由jimzhu发表: 不同离子源的结构会不同,清洗方式也有所不同。清洗要严格安装清洗步骤来做,可以参考录像和说明书等。也可以拆前拍照,以备后面对照。仔细还原,包括接线。
版主介绍的是。的确,初次清洗要按照上述去做
依风1986
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原文由ruan651209发表: 离子源应是专利申请最多的部位。

没办法,各辟蹊径,造型不可重复。
专利多,那么设计上有什么讲究?
蓝是那么的天1188
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结构上最简单的是岛国的离子源和透镜组可以分离,安的是一体的。
依风1986
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原文由matt_zheng发表: 结构上最简单的是岛国的离子源和透镜组可以分离,安的是一体的。
如何分离?
forth
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雾非雾
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原文由 蓝是那么的天1188(matt_zheng) 发表:
结构上最简单的是岛国的离子源和透镜组可以分离,安的是一体的。


一体的是不是安装起来比较容易些?
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