原文由 qhdzn 发表:
最近做元素砷,遇到了这样一个问题,标准空白随时间而增大。
举个例子:
仪器型号AFS-3100 负高压300V 灯电流40mA
仪器开机点灯预热半个小时后测定,当时标准空白比较稳定为41.830,之后做曲线和进行样品测定,基本上控制在半个小时内完成测定。
同样的样品空白分别放在样品测定开始前、测定中间和结束时测定,荧光强度分别为45.025、48.605、50.695和56.873,由于我的样品中砷含量很高,对应的稀释倍数很大。一点点的空白荧光强度变化都会导致最后样品的测定数据相差很多。
大家一起来研究一下是什么原因导致空白的荧光强度不断升高?
个人感觉仪器预热时间已经足够了。
PS:8ppb的标准溶液在样品测定前后分别为74.256和69.305,变化很大,并且空白还在不断地增大,导致标点的回收率很低。
原文由 qhdzn 发表:
最近做元素砷,遇到了这样一个问题,标准空白随时间而增大。
举个例子:
仪器型号AFS-3100 负高压300V 灯电流40mA
仪器开机点灯预热半个小时后测定,当时标准空白比较稳定为41.830,之后做曲线和进行样品测定,基本上控制在半个小时内完成测定。
同样的样品空白分别放在样品测定开始前、测定中间和结束时测定,荧光强度分别为45.025、48.605、50.695和56.873,由于我的样品中砷含量很高,对应的稀释倍数很大。一点点的空白荧光强度变化都会导致最后样品的测定数据相差很多。
大家一起来研究一下是什么原因导致空白的荧光强度不断升高?
个人感觉仪器预热时间已经足够了。
PS:8ppb的标准溶液在样品测定前后分别为74.256和69.305,变化很大,并且空白还在不断地增大,导致标点的回收率很低。