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原文由 qhdzn 发表:
最近做元素砷，遇到了这样一个问题，标准空白随时间而增大。
举个例子：
仪器型号AFS-3100 负高压300V 灯电流40mA
仪器开机点灯预热半个小时后测定，当时标准空白比较稳定为41.830，之后做曲线和进行样品测定，基本上控制在半个小时内完成测定。
同样的样品空白分别放在样品测定开始前、测定中间和结束时测定，荧光强度分别为45.025、48.605、50.695和56.873，由于我的样品中砷含量很高，对应的稀释倍数很大。一点点的空白荧光强度变化都会导致最后样品的测定数据相差很多。
大家一起来研究一下是什么原因导致空白的荧光强度不断升高？
个人感觉仪器预热时间已经足够了。
PS：8ppb的标准溶液在样品测定前后分别为74.256和69.305，变化很大，并且空白还在不断地增大，导致标点的回收率很低。
原文由 qhdzn 发表:
最近做元素砷，遇到了这样一个问题，标准空白随时间而增大。
举个例子：
仪器型号AFS-3100 负高压300V 灯电流40mA
仪器开机点灯预热半个小时后测定，当时标准空白比较稳定为41.830，之后做曲线和进行样品测定，基本上控制在半个小时内完成测定。
同样的样品空白分别放在样品测定开始前、测定中间和结束时测定，荧光强度分别为45.025、48.605、50.695和56.873，由于我的样品中砷含量很高，对应的稀释倍数很大。一点点的空白荧光强度变化都会导致最后样品的测定数据相差很多。
大家一起来研究一下是什么原因导致空白的荧光强度不断升高？
个人感觉仪器预热时间已经足够了。
PS：8ppb的标准溶液在样品测定前后分别为74.256和69.305，变化很大，并且空白还在不断地增大，导致标点的回收率很低。
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