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主题：【第八届原创】磁控溅射原理及TEM样品的制备

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仙后婧婧（谭思婧）
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发表于：2015/07/20 13:48:50 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
维权声明：本文为v2989334原创作品，本作者与仪器信息网是该作品合法使用者，该作品暂不对外授权转载。其他任何网站、组织、单位或个人等将该作品在本站以外的任何媒体任何形式出现均属侵权违法行为，我们将追究法律责任。

当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。

快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。

气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。

~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~

磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。
电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。

综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。
常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。

利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

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土老冒豆豆
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2015/7/20 15:44:45 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
要是有点图片就更直观了，看了此文，脑海中老浮现出炼钢的火花四溅的激动场景呢。
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小鱼625
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2015/7/20 15:44:46 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
TEM 全称是什么？主要涵盖什么项目？
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小M
mitchell_dyzy
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2015/7/21 12:42:14 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
发到前处理版面啦
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小M
mitchell_dyzy
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2015/7/21 12:42:49 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 小鱼625(v2974654) 发表:
TEM 全称是什么？主要涵盖什么项目？
Transmission Electron Microscope，透射电子显微镜
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仙后婧婧（谭思婧）
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2015/7/22 14:25:11 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 土老冒豆豆(土老冒豆豆) 发表:
要是有点图片就更直观了，看了此文，脑海中老浮现出炼钢的火花四溅的激动场景呢。
人家这个可文明了~~~~
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采购人
v3054637
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2015/11/12 22:04:32 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
求楼主指教：当中性的靶原子或分子在基片上沉积成膜时，会不会因为基片太薄，不耐高温，而导致基片粉碎？
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