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原文由 jewel(JEWEL512003) 发表:
石墨炉原吸都采用塞曼背景校正技术。石墨炉强制使用塞曼技术，是因为Ag、As、Be、Cd、Cr、Pb、SB、Se、Tl这9种元素背景校正不允许使用氘灯法。
塞曼背景校正分四种：
采用塞曼效应组合的方式很多，主要包括吸收线调制法(即校正装置加在原子化器上的)的横向恒定直流磁场校正技术、横向交变磁场校正技术、纵向交变磁场校正技术、3-磁场背景校正四种方式。
直流塞曼采用恒定磁场调制方式，其吸收线成分分开得不够彻底，测定灵敏度比常规原子吸收法有所降低。日立采用。
其他家采用可变磁场凋制方式，测定灵敏度已接近常规原子吸收法。横向交变磁场要使用偏光器（固定或旋转），理论上光能量损失50﹪，在＜200nm时高达75﹪，导致信噪比和检出限降低，且当∏、σ±成分严重重叠时，测定的灵敏度会有所降低，而采用纵向交变磁场将会避免上述问题，因此，纵向交变磁场相对于横向磁场来说有较好的信噪比和检出限。纵向交变磁场PE采用。横向交变磁场热电采用。
耶拿采用2、3-磁场塞曼背景校正，两种模式可任意切换，大大提高了石墨炉线性范围。3-磁场校正技术相对普通交变2-磁场而言，除0磁和高磁外，还有一个中间磁，而且可以根据被分析物的浓度，调节最佳的中间磁场强度。该技术主要是考虑普通校正的灵敏度低、线形范围小（比普通2-磁场的线形范围能提高1个数量级），使用时可以根据实际情况对不同元素、不同背景，采用不同的磁场强度来扣除复杂的结构背景，获得分析最佳的灵敏度。
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